Завершены работы по созданию первого отечественного литографа

ЗНТЦ завершил опытно-конструкторские работы по созданию первого отечественного фотолитографа (установка совмещения и проекционного экспонирования) с разрешением 350 нанометров (нм) – ключевого элемента при производстве микросхем. Установка принята государственной комиссией, в работе которой участвовали представители отраслевых организаций и крупнейших российских производителей микроэлектроники.

Фото: Зеленоградский нанотехнологический центр

В качестве соисполнителя для реализации работ была привлечена белорусская компания ОАО «Планар» как организация с профильным научно-техническим заделом всего постсоветского пространства.

«Новая совместная разработка имеет ряд преимуществ: существенно увеличена площадь рабочего поля – 22х22 мм по сравнению с предшествующей – 3,2х3,2 мм, на ступень больше максимальный диаметр обрабатываемых пластин – 200 мм вместо 150 мм. Кроме того, в мировой практике для производства данных литографов в качестве источника излучения используется ртутная лампа, в российской установке впервые использован твердотельный лазер – более мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром»генеральный директор АО «ЗНТЦ», –отмечает генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалев.

В настоящее время ведется адаптация технологических процессов к особенностям производства конечного потребителя, а также заключение контрактов на поставку первых установок для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств страны.

Все испытания разрабатываемого оборудования, а также дальнейшие адаптации технологических процессов к особенностям производств заявившихся заказчиков-предприятий будут проводится на специализированной площадке инженерно-исследовательского центра АО «ЗНТЦ» (Полигоне испытаний технологического оборудования АО «ЗНТЦ»).

Тестирование оборудования электронного машиностроения позволяет решить проблемы отладки, не затрагивая технологические процессы и ресурсы действующих производств, и существенно сократить путь от работки оборудования до серийного выпуска микроэлектронной продукции.

Также сейчас ведутся работы по созданию установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 130 нм. Завершение работ запланировано на 2026 год.